通过采用结合空心阳极离子枪和磁控管离子枪的独特新型离子枪,我们实现了超精细结构的薄膜。虽然它适合作为溅射粒径为1nm或更小的高分辨率SEM样品的导电涂层材料,但它可以很容易地涂上钨,这是一种飞溅率低的硬质材料。
0755-2691-4589◇采用空心阳极离子枪和磁控管离子枪相结合的独特新型离子枪,实现了钨超细结构薄膜。
在超低加速电压下对具有显著充电的样品进行 SEM 观察所花费的时间和精力是无法估量的。 另外,电荷对比真的很困难。
使用该设备,可以在短时间内安全地获得用SEM分辨率难以确认的致密且高导电的钨溅射粒子膜。
*钨是一种导电涂层材料,在低加速电压范围内具有优异的导电性和二次电子产率。
◇可以简单地进行粒径1nm以下的钨超微粒子的包覆。
・通过使用Ar离子的离子束溅射法沉积的钨膜的粒径为0.2nm~0.5nm。
即使在700,000倍SEM观察中也没有观察到颗粒感,非常适合高倍率观察。
・样品表面温度在50℃以下,因此可以进行热损伤小的涂层。
・可以在短时间内涂层。(真空度达到1Pa后所需时间3~5分钟)
· 可以绕入,狭窄的间隙也可以进行涂层和附着力优良的涂层。可以得到不易附着污染的涂膜。
・目标,标准准备了钨,根据您的要求可以换成各种目标材料。
※可选:也可以蚀刻。
离子枪外加电压 | 200 V |
目标施加电压 | 1.4 kV |
工作电流 | 20mA |
工作真空度 | 1 Pa |
目标尺寸 | 50 mm□ |
试样尺寸 | Φ32 x t15 mm 以内 |