◇紧凑和高性能

  使用 ECR 离子束可以进行纳米级蚀刻和沉积。制品特微

◇紧凑型高性能

  凭借 1050 x 650 x 1260 mm 的紧凑尺寸，它可以安装在各种环境中。 通过使用在真空中加速的离子束，可以在亚微米区域进行具有较少底切和侧切的各向异性蚀刻。 

◇可使用惰性气体和活性气体

  除了Ar、Xe等惰性气体外，O2、C3F8等活性气体也可作为离子源，使反应刻蚀成为可能。 

◇扩展性广

  通过安装可选的沉积单元，它还可以用作溅射沉积系统。 它还兼容长抛溅射，可以沉积高直线度的材料。