EIS-1500

Φ108 mm 的大口径光束!

充分利用光束平面内分布监控功能,可进行异向型干式刻蚀。


0755-2691-4589
  • 产品特点 联系我们

    ◇适合精细加工

      由于 ECR 等离子体是在低气压环境中产生的,因此可以提取高度笔直的光束。 大量的低能离子被加速并被引导到更高真空的样品室中进行处理。 这是最适合纳米级蚀刻加工的系统。


    ◇PC操作的简化和自动化

      它提供舒适的操作环境,例如自动计划功能和配方功能,以减轻操作员的负担。


    ◇低损伤蚀刻

      除了等离子体生成条件设置和射束加速电压设置之外,通过充分利用射束面内分布监控功能,可以最大限度地减少对抗蚀剂的损坏,并可以获得具有高选择比的加工条件。


  • 主要规格 联系我们

    离子枪

    ECR型离子枪

    电离气体

    Ar、Xe等、惰性离子种类的气体

    N2、O2、C3F8等、活性离子种类的气体

    加速电压

    300 ~ 2000 V 连续可变

    离子流密度

    Ar: 0.16 ~ 0.20 mA/cm2 以上 (700V加速时)

    离子束有效直径

    Φ 108 mm

    气体导入机构

    自动流量制御 最大6系統

    最大试样尺寸

    Φ 6英寸晶片