EIS-220P
一产品特点
◇2支离子枪
通过将2支离子枪分别用于蚀刻用和成膜用，可以在保持真空状态的状态下交替反复进行蚀刻和成膜，而不从腔室内取出样品。
◇离子束照射角度调整
通过调整样品台的角度，可以改变对样品的离子束照射角度，可以控制在所需角度的倾斜蚀刻。
◇可使用惰性气体、活性气体
除Ar、Xe等惰性气体外，02、CF,等活性气体也可以作为离子源应用，因此也可以进行反应性蚀刻。
-主要规格
| 电子枪 | ECR型离子枪 | |
| 电离气体 | Ar，Nz，0z，CF等 ※CF系气体需要咨询 | |
加速电压 | 20V~3000V | |
| 离子流密度 | Ar:1.5mA/cm2以上(2kV加速时) | |
| 离子束有效直径 | Ф20mm(FWHM 35mm)※最大时 | |
| 最大试样尺寸 | 主台:Ф4英寸 副台:中3英寸 | |
| 试样台 | 主台:旋转倾斜1轴动载物台(带水冷机构) 副台:旋转台(带水冷机构) | |
到达真空度 | 4 x10-Pa以下 | |
| 工作真空度 | 6x10Pa~2x10Pa | |
排气系统 | 涡轮分子泵干泵 | |
建议安装空间 | W3000mmXD2000mmxH1500mm | |
