BODENΣ这是我们自创业以来多年来一直致力于开发的最新型号的电子束光刻设备。 采用模块系统，您可以自由组合加速电压、腔室尺寸、传输机构和防振台，为每个应用构建最佳单元。
◇12英寸晶圆全曝光成为可能。
◇通过与晶圆自动传输系统（EFEM）对接，可以实现机器人的多阶段加工。
◇加速电压可根据用途选择50、100、125、150kV。
◇通过选择最大电流为 800 nA 的高电流模型，可以实现超出电子束光刻常识的高吞吐量微细加工。
◇业界最快的 400 MHz 高速扫描
迄今为止， 在大电流绘图时 ， 需要根据最小剂量时间和最佳剂量之间的平衡来设置较宽的发射间距 。 采用400 MHz扫描频率 ， 最小剂量时间是传统设备的1/4 ，实现了大电流小间距的高速高质量的曝光。
◇更快的载物台速度
布置大量绘制区域或在绘制过程中重复检测对准标记会增加载物台的驱动次数。 执行此类绘图时，载物台的驱动速度很重要。 BODEN ∑ 采用可高速驱动的平台，使其成为强调吞吐量的工业应用的有利规格。
◇减少外部干扰的影响
标配恒温Box和磁场消除器，减少了环境中的干扰，并实现了稳定的过程。
电子枪 | ZrO/W热场发射型 | |||
加速电压 | 50 kV | 100 kV | 125 kV | 150 kV |
光束电流 | 1 nA ～ 800 nA | 20 pA ～ 100 nA | 5 pA ～ 100 nA | 5 pA ～ 100 nA |
最小光束直径 | D 2.8 nm | D 1.8 nm | D 1.7 nm | D 1.5 nm |
标准写场大小 | 1000 μm□ | 1000 μm□ | 500 μm□ | 500 μm□ |
最小/最大写场大小 | 最小 100 μm□ 最大（选项）3000 μm□ | |||
扫描频率 | 最大 400 MHz | |||
发射间距 | 最小 0.2 nm | |||
最大试样尺寸 | 8” 晶片 / 12” 晶片 | |||
最大绘图区域 | 200 mm x 200 mm / 300 mm x 300 mm | |||
输送机构 | 单自动加载器 机器人装载机 | |||
Software | elms •束流调整功能 •曝光文件功能 •图案数据转换功能 •帐户管理功能 •Python脚本 | |||
