◇ 可以进行最大写场尺寸5mm的一次性整体曝光。

   实现了业界最大的5mm偏转，由于一次性整体曝光的范围扩大，所以非常适用于客户比较在意写场拼接误差的应用。另外，由于样品面内的样品台移动次数减少了，所以对于高产量的微纳加工很有帮助。

◇ 采用最大束流800nA的大电流电子光学系统

   搭载最大电流800nA的大电流电子光学系统，可进行超越电子光刻常识的高处理能力的微纳加工。到现在为止，用激光光刻技术或者光刻制作的µm ~ mm等级的图案也能进行高质量曝光。

◇ 业界最快速扫描频率400Hz

   到现在为止，用大电流进行曝光时，从最小Dose Time和最合适的dose量平衡考虑，有必要设定更大的Shot pitch。在400Hz扫描频率下，最小的Dose Time为传统的1/4，可实现以前不可能的大电流和小Pitch曝光，实现更高速度和更高质量的曝光。